洗涤剂、化学药 品、超声波清洗、 离子轰击、手艺 擦洗、紫外线和 臭氧等清洗办法

  石英晶体法监控膜厚，主要是运用了石英晶体的两个效 应，即压电效应和质量负荷效应。 石英晶体压电效应的固有频率不只取决于其几许尺度， 切切开类型并且还取决于晶片的厚度。当品片上镀了某种 膜层，使品片的厚度增大，则品片的固有频率会相应的衰 减。石英晶体的这个效应是质量负荷效应。石英晶体膜厚 监控仪是经过丈量频率或与频率有关的量进行膜厚丈量 的.

  离子镀技能（RF) 离子镀技能是在热蒸腾技能和溅射技能 结合的基础上发展起来的新工艺，1963 年首先应用于人造卫星的金属滑膜。 特色： 膜层附着力强 密度高 均匀性好 堆积速度快、

  • 折射率为1．52的玻璃敷有折射率为1．38的氟 化镁薄膜后，单面的反射丢失可从4.2%削减到 1．5%左右，例如7块平板体系镀膜后，在参 考波长上总的透射率可近似地估量为： • • T＝(0．97)7＝80．7%． 未镀膜： T=(0.92)7=55.7%

  截止滤光片的特性参数 1. 截止波长； 2. 通带宽度，均匀透射 率，最小答应透射率； 3. 截止带宽度，均匀反 射率，最大答应透射率； 4. 过渡区曲线陡度/过渡 区的波长宽度。

  光在经过分层媒质时，来自不同界面的反射光、透射光 在光的入射及反射方向发生光的干与现象，人们正是运用 这种干与现象，经过改动资料及其厚度等特性来人为的控 制光的干与，依据自身的需求来完成光能的重新分配。 进步光学功率、削减杂光。如高效减反射膜、高反射膜。 完成光束的调整或再分配。如分束膜、分色膜、偏振分 光膜便是依据不一样的需求进行能量再分配的光学元件。 经过波长的选择性透过进步体系信噪比。如窄带及带 通滤光片、 长波通、短波通滤光片。 完成某些特定功用。如ITO通明导电膜、保护膜等

  归于热蒸腾的一种方法 光学膜制备的最常用手 段 常常能够配以其它辅佐 蒸腾

  高频溅射又称 射频溅射——为溅 射介质资料而规划 磁控溅射—— 进步离化率、溅射 速率，下降基片温 度 反应溅射

  1、真空状态下，膜料的熔点温度和蒸腾温度要比在大气状态下低得多。比如在大

  气状态下，沸点温度是100℃，而在高山顶上，因为气压低，其沸点温度就不到 100℃了。气压低也便是有了必定的真空度。对高熔点的氧化物膜料，在真空状态下 其熔点要低得多。也就简单到蒸腾温度而不需太高的能量。 2、真空状态下，真空室中空气很少，膜料分子从蒸腾源抵达基片外表的旅程中几 乎不与残留在真空室中的气体分子磕碰，即分子自在程长。膜料简单堆积在基片上。 3、因为真空室中气体分子少，因此氧分子、硫分子等化学生动分子也少，高温状 态的膜料分子就不会与之发生化学改变，来确保膜层的膜料纯度。

  对策 复新，超声波清冼加强 在检好二个小时内镀膜和坚持环境干 净 按规则喷沙，用吹，酒精无纺 布擦洗 戴口罩.手套操作机器 按要求清冼电子枪及周围部件 取放镜片时别翻开吸尘器 防止膜料彼此污染，坩锅清扫不洁净 定时清冼

  Optical coatings 一般来讲薄膜敷于 光学玻璃、塑料、晶体等基底上； Optical layers 点是分层结构； 光学薄膜的一个特

  • 1、留意面别 • 3、留意次序 • 5、留意动作 • 7、留意尘埃 2、留意方向 4、留意视点 6、留意放稳 8、留意佩带

  1、膜系规划 2、成膜工艺 3、膜系实验 4、基片清冼 5、蒸镀工艺 6、功能检测

  咱们都知道当光线 的另一介质时在两介质的分界面上就会发生光的反射, 假如 介质没有吸收，分界面是一光学外表，光线又是笔直入射， 则反射率R为(不考虑膜层吸收）：

  泵名 机械泵 分子泵 罗茨泵 分散泵 溅射离子泵 钛进步泵 吸附泵 冷凝泵

  机械紧缩扫除气体 靠蒸汽射流带着扫除气 体 靠溅射或进步构成吸气、 吸附扫除气体 运用低温外表对 气体进 行物理吸附排气

  加电流要缓慢，不要加的太快 每罩要替换电子枪档板，以及电子枪 档板要清冼洁净 防止膜料彼此污染，以及保存办法 替换新膜料

  原因 1. 镜片自身 2 检好镜片等待时间过长 形成二次污染 3 真空室旋转架，伞架、 护板 4 拿取动作不标准 5 电子枪周围 6吸尘器污染 7膜料污染（自身不纯） 8进气口脏

  原理——经过气体放电方法产 生电子，经过磁场使电子取得 能量将气体分子电离 清冼东西 规管部件 规管污染，需清洗现象： 1.丈量不稳定，或9.9E-8 2.充氧量数字偏大，曲线偏长 留意 事项

  1.电子枪周围没有清扫洁净 用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件 2 坩锅没有清冼洁净 坩锅边际用百洁布、酒精、纱布清冼 洁净 3 镀膜时电子枪光斑不在中 镀膜时有必要把电子枪光斑打到中心而 不能打偏 间而打到边际 4 预熔资料不透彻 把膜料充分地预熔透彻 5 预熔膜料电流加得太快 6.电子枪档板不洁净 7.膜料污染 8.膜料自身不纯

  电阻蒸腾；低电压，大电流，可装 钼舟，钨丝。镀制MgF2，Ag，Al 等 低熔点资料。 电子枪蒸腾；现在最常用的电子 枪依据电子束偏转视点的不同，有 180度和270度偏转两种，270度偏转 又称为e型枪。电子枪的特色为高电 压，低束流。

  当油蒸汽从伞形喷咀(如I级喷咀)以超音 速喷出后，其速度逐步增大，压力及密 度逐步下降，射流上边的被抽气体因密 度差要向蒸汽射流中分散并被射流带着 到水冷的泵壁处，作业蒸汽大部分被冷 凝成油滴沿泵壁流回到油锅中循环使 用，而被抽气体在泵壁处堆积、紧缩， 最终被下级射流带着走，以到达逐级压 缩，最终被前级泵抽走。 其作业压强规模为10-2～10-6pa。

  • • • • 1、了解镀膜基础知识 2、了解镀膜操作流程和需求留意的几点 3、进步操作人员的技能水平 4、解说各种操作规则的原因

  冷却水和压 缩空气查看 开稳压电压 开机器总 电源 加热分散泵 （45分钟）

  透过率丢失，像的亮度下降，影响效果间隔等； 杂光影响（鬼像发生） ，像的反衬度下降；

  运用的波长规模，单点仍是宽光谱或一段光谱带一 点；例如可见区(420nm-700nm)，或红外（3700nm4800nm)，或可见区加1050nm等； 剩下反射率目标；（均匀或最大剩下反射率） 运用视点或视点规模； 运用环境；（有无三防要求等） 有无激光阈值要求； 镀膜面别

  • • • • 1、 再次承认膜料与程序里的坩埚号是否对应 2 、再次承认档板是否灵敏。 3、 再次承认伞架平稳。 4 、有无异物坠落（东西、手套）

  • 再次承认膜料与程序里的坩埚号是否对应，药 材有无反常，再次承认程序，留意蒸腾电流、 蒸腾速率、光斑方位和巨细、坩埚和DOME滚动、 批改板方位和形状、批改板的升降、温度、真 空度、充氧流量、光控曲线改变、离子源气体 流量、离子源功率、离子源挡板、坩埚挡板等 的翻开方位。